Химико-механическое полирование. Модели процесса / Р.В. Гольдштейн, Н.М. Осипенко
Другие варианты заглавия: : Модели процессаЯзык: русский ; английский ; резюме, английский.Выходные данные: Москва : Институт проблем механики Российской акад. наук, 2009Физическая характеристика: 40 с. : ил. ; 21 см.Серия: Препринт ; N° 918Примечания: Рез. на англ. яз..Библиография: Библиогр.: с. 36-39 (47 назв.).Предметная рубрика - Тема: Радиоэлектронная аппаратура миниатюрная -- Детали -- Полирование химическое Другие классификации: ( ) З844.1-06-1с31,0 ; З844.1-060.13Коллекция: Национальная библиография Тип экземпляра: Книга| Тип экземпляра | Текущая библиотека | Шифр хранения | Кол-во копий | Статус | Срок возврата | Штрих-код | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Книга | РНБ (Московский) Русский книжный фонд: издания с 1957 года | 2010-4/3617 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | 186 | Доступно | 3124698 |
Рез. на англ. яз.
химическое полирование с мех. нагрузкой в микро- и наноэлектронике
Библиогр.: с. 36-39 (47 назв.)