Atomically controlled silicon surface, [monography]
Ик 2018-7/441 - 350 экз.978-5-98901-188-9/[КН-П-18-010122]/английский/Atomically controlled silicon surface : [monography] / A. V. Latyshev, L. I. Fedina, D. I. Rogilo [et al.] ; Rzhanov institute of semiconductor physics, Siberian branch of Russian academy of sciences.Atomically controlled silicon surface : [monography] / A. V. Latyshev, L. I. Fedina, D. I. Rogilo [et al.].Atomically controlled silicon surface : [monography].Novosibirsk/Parallel/, 2016 ( ). - Parallel, 2016. - 220 с. : ил. ; 25 см.Atomically controlled silicon surface : [monography]. Novosibirsk, 2016 .
Библиогр. в конце гл. Библиогр. в конце гл.Кремний -- Поверхностные явления/nlr_sh1/nlr_sh2/В379.225с1,0/З843.322.406.3-1/
Библиогр. в конце гл. Библиогр. в конце гл.Кремний -- Поверхностные явления/nlr_sh1/nlr_sh2/В379.225с1,0/З843.322.406.3-1/