Труды Института общей физики. Т.58: Физико-химические аспекты технологии кристаллов сложных оксидов для твердотельных лазеров
русский (rus)/Физико-химические аспекты технологии кристаллов сложных оксидов для твердотельных лазеров .Физико-химические аспекты технологии кристаллов сложных оксидов для твердотельных лазеров.Физико-химические аспекты технологии кристаллов сложных оксидов для твердотельных лазеров.Б. м./, 2002 ( ). - 2002.Физико-химические аспекты технологии кристаллов сложных оксидов для твердотельных лазеров. Б. м., 2002 .Труды Института общей физики / АН СССР. Ин-т общ. физикиТ.58