Описание RUSMARC Карточка

Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления

русский (rus)/Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов.Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов.Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления.М./Изд-во ЦНИИ "Электроника"/, 1988 ( ). - Изд-во ЦНИИ "Электроника", 1988. - ; 21 см. - (Обзоры по электротехнике / ЦНИИ "Электроника").Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. М., 1988 .
     В надзаг. также: М-во электрон. пром-сти СССР. Шепелев, С. Н., Сергей Николаевич .С. Н.Сергей НиколаевичВасильев, Владислав Юрьевич (д-р хим. наук, электроника; 1953-)/Попов, Владимир Петрович (специалист в области электрон. техники; )/
Связаться с нами:

тел.: 8-800-100-01-96 , 8(812)310-71-37

e-mail: office@nlr.ru