Распределение температурных полей в диэлектрико-полупроводниковых структурах при импульсном фототермическом способе записи информации
русский/Распределение температурных полей в диэлектрико-полупроводниковых структурах при импульсном фототермическом способе записи информации .Распределение температурных полей в диэлектрико-полупроводниковых структурах при импульсном фототермическом способе записи информации.Распределение температурных полей в диэлектрико-полупроводниковых структурах при импульсном фототермическом способе записи информации.Л./ФТИ/, 1986 ( ). - ФТИ, 1986. - 28 с. : ил. ; 20 см. - (Препринт / АН СССР, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф. Иоффе ; 1053).Распределение температурных полей в диэлектрико-полупроводниковых структурах при импульсном фототермическом способе записи информации. Л., 1986 .
Рез. на англ. яз. - Библиогр.: с. 27. Библиогр.: с. 27.
Рез. на англ. яз. - Библиогр.: с. 27. Библиогр.: с. 27.