Доработка ионно-плазменной установки УРМЗ.279.014 системами контроля парциального давления газов в разрядной камере и толщины получаемых диэлектрических пленок
81-4/13645 русский (rus)/Доработка ионно-плазменной установки УРМЗ.279.014 системами контроля парциального давления газов в разрядной камере и толщины получаемых диэлектрических пленок = Modification of the ion-plasma installation urmz.279.014 by the monitoring systems of partial gas pressure in the discharging chamber and thickness of the obtained dielectric films / А.Г. Сергеев, А.А. Тарасов, А.В. Струин, О.А. Волонцевич.Доработка ионно-плазменной установки УРМЗ.279.014 системами контроля парциального давления газов в разрядной камере и толщины получаемых диэлектрических пленок / А.Г. Сергеев, А.А. Тарасов, А.В. Струин, О.А. Волонцевич.Доработка ионно-плазменной установки УРМЗ.279.014 системами контроля парциального давления газов в разрядной камере и толщины получаемых диэлектрических пленок = Modification of the ion-plasma installation urmz.279.014 by the monitoring systems of partial gas pressure in the discharging chamber and thickness of the obtained dielectric films.Харьков/ИРЭ/, 1980 ( ). - ИРЭ, 1980. - 16 с. : ил. ; 20 см. - (Препринт / АН УССР, Ин-т радиофизики и электроники, Харьков ; № 149).Доработка ионно-плазменной установки УРМЗ.279.014 системами контроля парциального давления газов в разрядной камере и толщины получаемых диэлектрических пленок. Харьков, 1980 .
Библиогр.: с. 16. Библиогр.: с. 16.Modification of the ion-plasma installation urmz.279.014 by the monitoring systems of partial gas pressure in the discharging chamber and thickness of the obtained dielectric films/
Библиогр.: с. 16. Библиогр.: с. 16.Modification of the ion-plasma installation urmz.279.014 by the monitoring systems of partial gas pressure in the discharging chamber and thickness of the obtained dielectric films/