Использование метода каналирования для исследования поверхностных ионнолегированных слоев в полупроводниках
[П2415-74]/русский/Использование метода каналирования для исследования поверхностных ионнолегированных слоев в полупроводниках / М-во электронной пром-сти СССР. ЦНИИ "Электроника".Использование метода каналирования для исследования поверхностных ионнолегированных слоев в полупроводниках / М-во электронной пром-сти СССР. ЦНИИ "Электроника".Использование метода каналирования для исследования поверхностных ионнолегированных слоев в полупроводниках.Москва/Б. и./, 1974 ( ). - Б. и., 1974. - 52 с. : ил. ; 21 см. - (Обзоры по электронной технике ; Вып. 232 ; Вып. 11).Использование метода каналирования для исследования поверхностных ионнолегированных слоев в полупроводниках. Москва, 1974 .
Библиогр.: с. 49-52. Библиогр.: с. 49-52.
Библиогр.: с. 49-52. Библиогр.: с. 49-52.