Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем, (Общие вопросы разработки и исходные закономерности)
71-3/2090 [[71-24066]]/русский/Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем : (Общие вопросы разработки и исходные закономерности).Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем : (Общие вопросы разработки и исходные закономерности).Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем : (Общие вопросы разработки и исходные закономерности).Москва/Энергия/, 1971 ( ). - Энергия, 1971. - 328 с. : ил. ; 21 см.Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем : (Общие вопросы разработки и исходные закономерности). Москва, 1971 .
На корешке загл.: Высокотемпературный псевдоожиженный слой. - Список лит.: с. 273-323 (995 назв.). - Предм. указ.: с. 324-326. Список лит.: с. 273-323 (995 назв.). Предм. указ.: с. 324-326.Кипящий слой/psbo/
На корешке загл.: Высокотемпературный псевдоожиженный слой. - Список лит.: с. 273-323 (995 назв.). - Предм. указ.: с. 324-326. Список лит.: с. 273-323 (995 назв.). Предм. указ.: с. 324-326.Кипящий слой/psbo/