Современные технологические методы изготовления микросхем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах, Обзор по материалам отеч. и зарубеж. литературы за 1969-1973 гг.
76-50К/250 русский (rus)/Современные технологические методы изготовления микросхем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах : Обзор по материалам отеч. и зарубеж. литературы за 1969-1973 гг. / Сост.: А.Г. Алексеенко, С.В. Ротнов, И.И. Шагурин.Современные технологические методы изготовления микросхем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах : Обзор по материалам отеч. и зарубеж. литературы за 1969-1973 гг. / Сост.: А.Г. Алексеенко, С.В. Ротнов, И.И. Шагурин.Современные технологические методы изготовления микросхем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах : Обзор по материалам отеч. и зарубеж. литературы за 1969-1973 гг.Б. м./Б. и./, 1975 ( ). - Б. и., 1975. - 22 с. : ил. ; 21 см. - (Головной отдел научно-технической информации ; 5).Современные технологические методы изготовления микросхем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах : Обзор по материалам отеч. и зарубеж. литературы за 1969-1973 гг. Б. м., 1975 .
Библиогр.: с. 20-21. - ДСП. Экз. № 6. Библиогр.: с. 20-21.
Библиогр.: с. 20-21. - ДСП. Экз. № 6. Библиогр.: с. 20-21.