Исследование переходного слоя границы раздела SiO₂-Si
Язык: русский.Выходные данные: Новосибирск : Ин-т физики полупроводников, 1978Физическая характеристика: 13 с. : граф. ; 20 см.Серия: Препринты докладов ; 10-12 окт. 1978 г.Примечания: На обл. только загл. сер..Библиография: Библиогр.: с. 13. Тип экземпляра: Книга| Тип экземпляра | Текущая библиотека | Шифр хранения | Статус | Срок возврата | Штрих-код | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Книга | РНБ (Московский) Русский книжный фонд: издания с 1957 года, 9этаж, Хран. | 78-4/28167 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | Доступно | 6498692-10 |
На обл. только загл. сер.
Библиогр.: с. 13