Моделирование процессов имплантации в многослойные структуры : (Одномер. вариант 1) / Бекишева А.М., Дагман Э.Е., Тишковский Е.Г.
Язык: русский.Выходные данные: Новосибирск : Ин-т физики полупроводников, 1987Физическая характеристика: 37 с. : граф. ; 20 см.Серия: Препринт ; 9Библиография: Библиогр.: с. 35-36. Тип экземпляра: Книга| Тип экземпляра | Текущая библиотека | Шифр хранения | Статус | Срок возврата | Штрих-код | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Книга | РНБ (Московский) Русский книжный фонд: издания с 1957 года, 9этаж | 88-4/8077 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | Доступно | 5664589-10 |
Библиогр.: с. 35-36