Гетерогенные реакции в процессах травления материалов микроэлектроники Si, Ge и SiO₂ : Дис. на соиск. учен. степ. д-ра хим. наук в форме науч. докл.; (02.00.04) / АН СССР. Сиб. отд-ние. Ин-т неорган. химии
Язык: русский.Выходные данные: Новосибирск : Б. и., 1991Физическая характеристика: 47 с. : ил.Библиография: Библиогр.: с. 44-47.Предметная рубрика - Тема: Радиоэлектронная аппаратура миниатюрная -- Материалы Тип экземпляра: Книга| Тип экземпляра | Текущая библиотека | Шифр хранения | Статус | Срок возврата | Штрих-код | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Автореферат | РНБ (Московский) Русский книжный фонд: издания с 1957 года, 9этаж | А91/13363 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | Доступно | 8771455-10 |
Библиогр.: с. 44-47