000 01516nam0a2200349 4500
001 RU\NLR\bibl\1413089
005 20250615211824.0
021 _aRU
_b2009-54594
_93367
035 _a(NLR Aleph) 001405066
090 _a1246777
_c1246777
100 _a20090916d2008 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
_deng
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aУстановка для исследования процессов ионного распыления под влиянием пучков ионов средних энергий
_fК. Пышняк, М. Турек, А. Дроздзель [и др.]
210 _aДубна
_cИздательский отдел Объединенного института ядерных исследований
_d2008
215 _a7, [1] c.
_cил.
_d22
225 1 _aПрепринт
_fОбъединенный ин-т ядер. исслед.
_vР-13-2008-145
300 _aРез. на англ. яз.
313 _aп/п промышленность
320 _aБиблиогр. в конце кн. (5 назв.)
606 1 _aПолупроводниковые приборы
_xПроизводство
_xОборудование
_91921992
_3RU\NLR\auth\66876845
686 _aЗ852-06-5
701 1 _aПышняк
_bК.
_4070
701 1 _aТурек
_bМ.
_4070
701 1 _aДроздзель
_bА.
_4070
801 0 _aRU
_bNLR
_c20090916
_gRCR
801 1 _aRU
_bNLR
_c20090916
942 _cBOOK
980 _aNB
980 _aNBR