000 02169nam0a2200349 4500
001 RU\NLR\BIBL_A\022475345
005 20260503055115.0
010 _a978-5-507-48885-8
_930
035 _a(NLR Aleph) 022475345
090 _a13513449
_c13513449
100 _a20250228d2024 u y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aac j 000yy
181 0 _ai
_baxxe
182 0 _an
200 1 _aВведение в технологию химического осаждения из газовой фазы тонких пленок для электроники: оборудование, методология, особенности роста
_eучебное пособие
_eдля студентов старших курсов высших учебных заведений, аспирантов, исследователей и инженеров, работающих в области микроэлектронных технологий
_fВ. Ю. Васильев
203 _aТекст
_bвизуальный
_cнепосредственный
210 _aСанкт-Петербург [и др.]
_cЛань
_d2024
215 _a340 с.
_cил., табл., портр.
_d24
225 1 _aВысшее образование
300 _aНа задней соронке пер. авт.: В. Ю. Васильев, д-р хим. наук, проф.
320 _aБиблиогр.: с. 321–338 (241 назв.)
606 1 _aТонкие пленки
_jУчебные издания для высших учебных заведений
_xОсаждение из газовой фазы
_91850870
_3RU\NLR\AUTH\661129986
606 1 _aЭлектроника пленочная
_jУчебные издания для высших учебных заведений
_9934840
_3RU\NLR\AUTH\66344808
686 1 _aЗ844.13-060.7я73-1
686 1 _aЗ843.08я73-1
700 1 _aВасильев
_bВ. Ю.
_cд-р хим. наук, электроника
_f1953-
_gВладислав Юрьевич
_9129825
_3RU\NLR\AUTH\770129856
942 _cBOOK
980 _aNB