000 01821nam0a2200385 4500
001 RU\NLR\bibl\1485026
005 20250616010735.0
021 _aRU
_b2010-3046
_9186
035 _a(nilc)RSL-KNO-004572402
035 _a(NLR Aleph) 001476645
090 _a1677391
_c1677391
100 _a20100127d2009 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
_aeng
_deng
102 _aRU
105 _aa zzzz|||||
200 1 _aХимико-механическое полирование. Модели процесса
_fР.В. Гольдштейн, Н.М. Осипенко
210 _aМосква
_cИнститут проблем механики Российской акад. наук
_d2009
215 _a40 с.
_cил.
_d21
225 1 _aПрепринт
_fРос. акад. наук, Учреждение Рос. акад. наук Ин-т проблем механики им. А.Ю. Ишлинского РАН
_vN° 918
300 _aРез. на англ. яз.
313 _aхимическое полирование с мех. нагрузкой в микро- и наноэлектронике
320 _aБиблиогр.: с. 36-39 (47 назв.)
517 0 _aМодели процесса
606 1 _aРадиоэлектронная аппаратура миниатюрная
_xДетали
_xПолирование химическое
_92594976
_3RU\NLR\auth\661533296
686 _aЗ844.1-06-1с31,0
_2rubbk
686 _aЗ844.1-060.13
700 1 _aГольдштейн
_bР. В.
_gРоберт Вениаминович
_4070
701 1 _aОсипенко
_bН. М.
_gНиколай Михайлович
_4070
801 0 _aRU
_bRuMoRGB
_c20100127
_grcr
801 1 _aRU
_bRuMoRGB
_c20100127
801 2 _aRU
_bNLR
_c20100315
_grcr
942 _cBOOK
980 _aNB