| 000 | 01887nam0a2200325 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | RU\NLR\b_ik\101220 | ||
| 005 | 20250616225057.0 | ||
| 035 | _a(NLR Aleph) 002175101 | ||
| 090 |
_a2706822 _c2706822 |
||
| 100 | _a20031013d2003 |||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 |
_aeng _drus |
|
| 102 | _aRU | ||
| 105 | _aa ||||||||| | ||
| 200 | 1 |
_aNumerical study of radiation of plasma composed of different elements in application to development of EUV light source for lithography _fA.E. Stepanov, N.V. Suetin, V.C Roerich |
|
| 210 |
_a[М.] _cЦНИИатоминформ _d2003 |
||
| 215 |
_a16 с. _cил. _d21 |
||
| 225 | 1 |
_aПрепринт ТРИНИТИ _fГос. науч. центр Рос. Федерации Троиц. ин-т инновац. и термоядер. исслед. _v102-A |
|
| 300 | _aВ вып. дан.: Численное исследование излучения плазмы различных элементов в приложении к разработке источников ультрафиолетового излучения для литографии / А.Е. Степанов, Н.В. Суетин, В.К. Рерих | ||
| 300 | _aРез. на рус. яз. | ||
| 320 | _aБиблиогр.: с. 15-16 (19 назв.) | ||
| 517 | 0 | _aЧисленное исследование излучения плазмы различных элементов в приложении к разработке источников ультрафиолетового излучения для литографии | |
| 606 | 0 |
_aЛитография _91119920 _3RU\NLR\AUTH\66123822 |
|
| 686 | 4 | _aМ831 | |
| 700 | 1 |
_aStepanov _bA. E. _4070 |
|
| 701 | 1 |
_aSuetin _bN. V. _gNikolaj Vladislavovič _4070 |
|
| 701 | 1 |
_aRerich _bV. K. _4070 |
|
| 801 | 0 |
_aRU _bNLR _c20031013 _gPSBO |
|
| 942 | _cBOOK | ||
| 980 | _aNB | ||