000 01944nam2a22002891 4500
001 RU\NLR\INFOCOMM17\1000422184
005 20250617112423.0
035 _a(NLR Aleph) 002572290
090 _a3200476
_c3200476
100 _a20040531d1981 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _ay |||||||||
200 1 _aСистемный подход при проектировании автоматических линий для промышленных фотолитографических комплексов
_fВ.В. Степанов, В.В. Сысоев
210 _d1981
_aБ. м.
225 1 _a...
_vВып.845
_i...
_v1981, Вып.21
461 0 _1001RU\NLR\INFOCOMM55\1000056712
_12001#$aОбзоры по электронной технике$fМ-во электронной пром-сти СССР. Ин-т "Электроника"$vВып.845
_93197280
_cМ.
_d1968-
_fМ-во электронной пром-сти СССР. Ин-т "Электроника"
_tОбзоры по электронной технике
_vВып.845
462 0 _1001RU\NLR\INFOCOMM17\1000421987
_12001#$aОбзоры по электронной технике...$iСерия:Технология и организация производства$fМ-во электронной пром-сти СССР. Ин-т "Электроника"$v1981, Вып.21
_93198795
_cМ.
_d1970-
_fМ-во электронной пром-сти СССР. Ин-т "Электроника"
_iСерия: Технология и организация производства
_tОбзоры по электронной технике. - Обзоры по электронной технике
_v1981, Вып.21
700 1 _aСтепанов
_bВ.В.
_4070
701 1 _aСысоев
_bВ.В.
_4070
801 1 _aRU
_bInfoComm
_c20040531
801 0 _aRU
_bNLR
_gPSBO
852 _aNLR
_jП51/94
942 _cISSUE
980 _aNB
980 _aRUSPER