| 000 | 01243nam0a22002771 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | rc\869594 | ||
| 005 | 20250622023912.0 | ||
| 035 | _a(NLR Aleph) 006048198 | ||
| 090 |
_a4776822 _c4776822 |
||
| 100 | _a20041129d1983 |||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | _arus | |
| 102 | _aRU | ||
| 105 | _aa ||||||||| | ||
| 200 | 1 |
_aТехнологическое применение низкотемпературной плазмы _f[Оулет Р., Барбье М., Черемисинофф П. и др.] _gПер. с англ. под ред. Н.Н. Семашко |
|
| 210 |
_aМ. _cЭнергоатомиздат _d1983 |
||
| 215 |
_a143 с. _cил. _d21 |
||
| 300 | _aПеревод изд.: Low-temperature plasma technology applications / R. Ouellette, M. Barbier, P. Cheremisinoff. High-temperature plasma technology applications / L. Ettlinger, D. Nairan, R. Ouellette, P. Cheremisinoff (Ann Arbor, 1980) | ||
| 300 | _aАвт. указаны в вып. дан. | ||
| 320 | _aБиблиогр.: с. 136-141 (111 назв.) | ||
| 701 | 1 |
_aОулет _bР. |
|
| 702 | 1 |
_aСемашко _bН.Н. _gНиколай Николаевич _4340 |
|
| 801 | 0 |
_aRU _bNLR _gpsbo |
|
| 801 | 1 |
_aRU _bELAR _2rusmarc |
|
| 852 |
_aNLR _j84-5/867 |
||
| 942 | _cBOOK | ||
| 980 | _aNB | ||