000 01234nam0a22002771 4500
001 rc\908494
005 20041129094645.6
035 _a(NLR Aleph) 006083384
090 _a5106022
_c5106022
100 _a20041129d1984 u y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aФоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии
_f[Е.Г. Гук, А.В. Ельцов, В.Б. Шуман, Т.А. Юрре]
_gОтв. ред. д. х. н. А.В. Ельцов
210 _aЛ.
_cНаука. Ленингр. отд-ние
_d1984
215 _a117 с.
_cил.
_d22
300 _aВ надзаг.: АН СССР, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф. Иоффе
320 _aБиблиогр. в конце глав и с. 116
701 1 _aГук
_bЕ.Г.
_gЕлена Григорьевна
702 1 _aЕльцов
_bА. В.
_f1934-2000
_gАндрей Васильевич
_3RU\NLR\AUTH\770262081
_4340
712 0 2 _aФизико-технический институт им. А. Ф. Иоффе
_cЛенинград
_3RU\NLR\AUTH\8822055
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j84-5/5462
942 _cBOOK
980 _aNB