000 01766nam0a2200313 4500
001 RU\NLR\bibl\1298799
005 20260405175219.0
021 _aRU
_b2008-79531
_94620
035 _a(NLR Aleph) 001284405
090 _a519517
_c519517
100 _a20081126d2008 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aЭлионная технология в микро- и наноиндустрии
_eкурс лекций
_fГ.Д. Кузнецов, А.Р. Кушхов, Б.А. Билалов
_gФедер. агентство по образованию, Гос. технол. ун-т Моск. ин-т стали и сплавов, МИСиС, Каф. технологии материалов электроники
210 _aМосква
_cИздательский дом МИСиС
_d2008
215 _a155 с.
_cил.
_d21
313 _aосаждение тонких пленок при воздействии электронов и ионов(элионная технология)
320 _aБиблиогр.: с. 155
606 1 _aТонкие пленки
_jУчебные издания для высших учебных заведений
_xОсаждение
_92267635
_3RU\NLR\auth\661359283
686 _aЗ844.13-060.7я73-2
700 1 _4070
_8rus
_7ca
_aКузнецов
_bГ. Д.
_cд-р техн. наук
_gГеннадий Дмитриевич
_3RU\NLR\auth\7776328
_959256
701 1 _aКушхов
_bА. Р..
_gАскер Русланович
_4070
701 1 _aБилалов
_bБ. А.
_gБилал Аругович
_4070
801 0 _aRU
_bNLR
_c20081126
_gRCR
801 1 _aRU
_bNLR
_c20081126
942 _cBOOK
980 _aNB