| 000 | 01400nam1a22002891 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | rc\509088 | ||
| 005 | 20221219175315.0 | ||
| 035 | _a(NLR Aleph) 005810792 | ||
| 090 |
_a5384803 _c5384803 |
||
| 100 | _a20030616d1988 u |0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | _arus | |
| 102 | _aRU | ||
| 105 | _ay ||||||||| | ||
| 200 | 1 |
_aПлазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления _fС.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов |
|
| 210 |
_aМ. _cИзд-во ЦНИИ "Электроника" _d1988 |
||
| 215 | _d21 | ||
| 225 | 1 |
_aОбзоры по электротехнике _fЦНИИ "Электроника" _hСерия 2 _iПолупроводниковые приборы |
|
| 300 | _aВ надзаг. также: М-во электрон. пром-сти СССР | ||
| 700 | 1 |
_aШепелев _bС. Н. _gСергей Николаевич |
|
| 701 | 1 |
_aВасильев _bВ. Ю. _cд-р хим. наук, электроника _f1953- _gВладислав Юрьевич _3RU\NLR\AUTH\770129856 |
|
| 701 | 1 |
_aПопов _bВ. П. _cспециалист в области электрон. техники _gВладимир Петрович _3RU\NLR\AUTH\770227201 |
|
| 801 | 0 |
_aRU _bNLR _gpsbo |
|
| 801 | 1 |
_aRU _bELAR _2rusmarc |
|
| 852 |
_aNLR _jП51/94 |
||
| 942 | _cBOOK | ||
| 980 | _aNB | ||