000 01178nam0a22002771 4500
001 rc\2121279
005 20110829172522.7
035 _a(NLR Aleph) 006490346
090 _a6125985
_c6125985
100 _a20110829d1979 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa z |||||
200 1 _aАппаратура для получения эпитаксиальных слоев элементарных полупроводников из газовой среды
_f[И.В. Гранков, В.М. Гуревич, Л.С. Иванов и др.]
210 _aМосква
_cЦНИИцветмет экономики и информ.
_d1979
215 _a40 с.
_cил.
_d21
225 1 _aОбзорная информация
_fЦНИИ экономики и информ. цв. металлургии
_iСерия "Производство редких металлов"
_vВып. 3
320 _aБиблиогр.: с. 38-40
701 1 _aГуревич
_bВ. М.
701 1 _aГранков
_bИ. В.
701 1 _aИванов
_bЛ. С.
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_jП10/5594
942 _cBOOK
980 _aNB