000 00930nam0a22002411 4500
001 rc\342864
005 20250621050412.0
035 _a(NLR Aleph) 005586417
090 _a6166388
_c6166388
100 _a20030307d1989 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aФотоэлектрические свойства гетероструктуры In₂O₃-Ga₂O₃-GaSe с туннельно-тонким слоем диэлектрика
_fС.И. Драпак, В.Н. Катеринчук, З.Д. Кавалюк, В.А. Манассон
210 _aКиев
_cИПМ
_d1989
215 _a[1], 19 с.
_cил.
_d20
225 1 _aПрепринт
_fАН УССР, Ин-т пробл. материаловедения
_vN 5
320 _aБиблиогр.: с. 16-18
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j89-4/15697
942 _cBOOK
980 _aNB