000 01184nam0a22003011 4500
001 rc\3235913
005 20250609165601.0
021 _aRU
_b73-97210
021 _aRU
_bРг1408-74
035 _a(NLR Aleph) 007372666
090 _a6424665
_c6424665
100 _a20130115d1973 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _ay z |||||
200 1 _aИзучение негативных азидосодержащих фоторезистов
_e(Тезисы докл.)
_fМ-во высш. и сред. спец. образ. РСФСР. Ленингр. технол. ин-т им. Ленсовета
210 _aЧерноголовка
_cБ. и.
_d1973
215 _a3 с.
_d22
300 _aПеред загл. авт.: Л.С. Эфрос, А.В. Ельцов, Т.А. Юрре
320 _aБиблиогр.: с. 3
700 1 _aЭфрос
_bЛ.С.
_gЛев Соломонович
701 1 _7ca
_8rus
_aЕльцов
_bА. В.
_f1934-2000
_gАндрей Васильевич
_9262025
_3RU\NLR\AUTH\770262081
701 1 _aЮрре
_bТ.А.
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j73-6/11159
942 _cBOOK
980 _aNB