000 01486nam0a22002651 4500
001 rc\1060825
005 20250622094755.0
035 _a(NLR Aleph) 006221580
090 _a6475764
_c6475764
100 _a20041129d1980 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aДоработка ионно-плазменной установки УРМЗ.279.014 системами контроля парциального давления газов в разрядной камере и толщины получаемых диэлектрических пленок
_dModification of the ion-plasma installation urmz.279.014 by the monitoring systems of partial gas pressure in the discharging chamber and thickness of the obtained dielectric films
_fА.Г. Сергеев, А.А. Тарасов, А.В. Струин, О.А. Волонцевич
210 _aХарьков
_cИРЭ
_d1980
215 _a16 с.
_cил.
_d20
225 1 _aПрепринт
_fАН УССР, Ин-т радиофизики и электроники, Харьков
_v№ 149
320 _aБиблиогр.: с. 16
510 0 _aModification of the ion-plasma installation urmz.279.014 by the monitoring systems of partial gas pressure in the discharging chamber and thickness of the obtained dielectric films
701 1 _aСергеев
_bА.Г.
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j81-4/13645
942 _cBOOK
980 _aNB