000 01185nam0a22002891 4500
001 rc\39365
005 20230809093355.0
035 _a(NLR Aleph) 005321743
090 _a6495845
_c6495845
100 _a20021216d1991 u |0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aЭлектрофизические свойства низкотемпературных слоев SiO₂
_fБелоусов И.И., Ефимов В.М., Синица С.П.
210 _aНовосибирск
_cИФП
_d1991
215 _a52 с.
_cил.
_d19
225 1 _aПрепринт
_fАН СССР. Сиб. отд-ние. Ин-т физики полупроводников
_v№ 5
320 _aБиблиогр.: с. 48-52 (51 назв.)
700 1 _aБелоусов
_bИ. И.
_gИван Иванович
701 1 _aЕфимов
_bВ. М.
_cканд. физ.-мат. наук
_gВалерий Михайлович
_3RU\NLR\AUTH\770258454
_4070
701 1 _aСиница
_bС. П.
_gСтанислав Платонович
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j91-4/6839
942 _cBOOK
980 _aNB