000 02076nam2a22002531 4500
001 rc\1001308
005 20250622104330.0
035 _a(NLR Aleph) 006246954
090 _a6717457
_c6717457
100 _a20041129d1981 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aПолучение конфигурации элементов интегральных схем плазменными методами
_fС.В. Грушецкий, А.П. Достенко
210 _d1981
_aБ. м.
215 _a49 с.
_cил.
320 _aБиблиогр.: с. 45-49
461 0 _1001rc\1001307
_12001#$aСовременные технологические процессы в микроэлектронике$eМетод. пособие по курсам "Технология микросхем и элементов ЭВА", "Конструкции и технология микросхем", "Соврем. технол. процессы в пр-ве БИС и СБИС" для спец. 0705, 0648$fМ-во высш. и сред. спец. образования БССР. Мин. радиотехн. ин-т. Каф. технологии радиоэлектрон. аппаратуры$vЧ. 4
_96717450
_cМинск
_d1981
_fМ-во высш. и сред. спец. образования БССР. Мин. радиотехн. ин-т. Каф. технологии радиоэлектрон. аппаратуры
_nМРТИ
_oМетод. пособие по курсам "Технология микросхем и элементов ЭВА", "Конструкции и технология микросхем", "Соврем. технол. процессы в пр-ве БИС и СБИС" для спец. 0705, 0648
_tСовременные технологические процессы в микроэлектронике
_vЧ. 4
701 1 _aГрушецкий
_bС.В.
_gСвятослав Васильевич
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j82-4/29112
942 _cBOOK
980 _aNB