| 000 | 01409nam1a22002771i 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | rc\615658 | ||
| 005 | 20240921192755.0 | ||
| 035 | _a(NLR Aleph) 005950244 | ||
| 090 |
_a6758109 _c6758109 |
||
| 100 | _a20031121d1986 u |0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | _arus | |
| 102 | _aRU | ||
| 105 | _ay ||||||||| | ||
| 200 | 1 |
_aПлазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления _fС.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов |
|
| 210 |
_aМ. _cИзд-во ЦНИИ "Электроника" _d1986 |
||
| 215 | _d21 | ||
| 225 | 1 |
_aОбзоры по электронной технике... _fЦНИИ "Электроника" _hСерия 2 _iПолупроводниковые приборы... |
|
| 300 | _aВ надзаг. также: М-во электрон. пром-сти СССР | ||
| 700 | 1 |
_aШепелев _bС.Н. _gСергей Николаевич |
|
| 701 | 1 |
_aВасильев _bВ. Ю. _cд-р хим. наук, электроника _f1953- _gВладислав Юрьевич _3RU\NLR\AUTH\770129856 _9129825 |
|
| 701 | 1 |
_aПопов _bВ. П. _cспециалист в области электрон. техники _gВладимир Петрович _3RU\NLR\AUTH\770227201 _9227145 |
|
| 801 | 0 |
_aRU _bNLR _gpsbo |
|
| 801 | 1 |
_aRU _bELAR _2rusmarc |
|
| 852 |
_aNLR _jП51/94 |
||
| 942 | _cBOOK | ||