000 01325nam0a22002651 4500
001 rc\611436
005 20250621231048.0
035 _a(NLR Aleph) 005970074
090 _a6926552
_c6926552
100 _a20031121d1986 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aВхождение примесных центров в кристаллический слой полупроводника
_e(Процессы образования монокристал. слоев для микроэлектроники)
_fТ.А. Смородина, Н.Н. Шефталь, А.П. Цуранов
_gОтв. ред. И.А. Смирнов
_gАН СССР, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф. Иоффе, Ин-т кристаллографии им. А.В. Шубникова
210 _aЛ.
_cНаука. Ленингр. отд-ние
_d1986
215 _a173 с.
_cил.
_d22
320 _aБиблиогр.: с. 161-171 (180 назв.)
700 1 _aСмородина
_bТ.А.
_f1926-
_gТатьяна Александровна
701 1 _aШефталь
_bН.Н.
_gНиколай Наумович
701 1 _aЦуранов
_bА.П.
_gАлександр Павлович
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_j86-5/4475
942 _cBOOK
980 _aNB