000 01268nam0a22002651 4500
001 rc\441855
005 20030616171232.7
035 _a(NLR Aleph) 005687648
090 _a7141571
_c7141571
100 _a20030616d1988 u |0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa |||||||||
200 1 _aРеактивное нанесение в вакууме слоев нитрида титана и применение их в системах контактной металлизации полупроводниковых приборов
_e(По данным зарубеж. и отеч. печати за 1975-1987 г.)
210 _aМ.
_cИзд-во ЦНИИ "Электроника"
_d1988
215 _a60 с.
_cил.
_d21
225 1 _aОбзоры по электронной технике
_fЦНИИ "Электроника"
_vВып. 1366
_hСерия 2
_iПолупроводниковые приборы
_vВып. 6
300 _aВ надзаг. также: М-во электрон. пром-сти СССР
320 _aБиблиогр.: с. 52-58
700 1 _aСейдман
_bЛ. А.
_gЛев Александрович
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_jП51/94
942 _cBOOK
980 _aNB