000 01569nam0a22003011 4500
001 rc\4878680
005 20130426150507.6
021 _aRU
_bП191-68
035 _a(NLR Aleph) 008825537
090 _a8249272
_c8249272
100 _a20130426d1967 |||y0rusy50 ca
101 0 _arus
102 _aRU
105 _aa z |||||
200 1 _aМетоды контроля, используемые в производстве тонкопленочных и твердых микросхем
_eОбзор по материалам отечеств. и зарубежной печати за 1960-1965 гг.
_fСост.: Невский, Ю.А., Нудельман, А.С., Трубецкой, А.И.
_gМ-во электронной пром-сти СССР. Центр. науч.-исслед. ин-т техн.-экон. исследований и науч. информации
210 _aМосква
_cБ. и.
_d1967
215 _a62 с.
_cил.
_d21
225 1 _aОбзоры научно-технической литературы по электронной технике
_iСерия. Полупроводниковые приборы и микроэлектроника
_eОбзор
_v№ 12 (1966 г.)
300 _aНа обл. авт. не указаны
320 _aБиблиогр.: с. 61
700 1 _aНевский
_bЮ. А.
_4220
701 1 _aНудельман
_bА. С.
_4220
701 1 _aТрубецкой
_bА. И.
_4220
801 0 _aRU
_bNLR
_gpsbo
801 1 _aRU
_bELAR
_2rusmarc
852 _aNLR
_jП10/3313
942 _cBOOK
980 _aNB