000 01601nam1a22003131i 4500
001 RU\INFOCOMM_322\NLR\5000184530
005 20260405115121.0
035 _a(NLR Aleph) 009590652
090 _a9248137
_c9248137
100 _a20130219d1992 |||y0rusy50 ba
101 0 _aeng
_drus
102 _aRU
105 _ay z |||||
200 1 _aMathematical simulation of transport processes of species in gas phase in modern sputter-deposition technologies of thin films
_fA. A. Fursenko, T. A. Khantuleva, Yu. N. Makarov, M. S. Ramm
210 _aSt.-Petersburg
_cФТИ
_d1992
215 _d20 см
225 1 _aPreprint
_fRuss. acad. of sciences, A. F. Ioffe phys. techn. inst.
300 _aНа обороте тит. л.: Математическое моделирование процессов переноса реагентов в подложке в современных технологиях осаждения тонких пленок / А. А. Фурсенко и др.
300 _aНа обл. надзаг. на рус. яз.
300 _aРез. на рус. яз.
320 _aБиблиогр. в конце томов
606 0 _aТонкие пленки
_xОсаждение
_xМатематическое моделирование
_91850851
_3RU\NLR\AUTH\661129977
620 _aСанкт-Петербург
686 _aЗ844.13-01с11
_2rubbk
701 1 _8rus
_7ba
_aFursenko
_bA. A.
_f1927-2008
_gAleksandr Aleksandrovič
_3RU\NLR\AUTH\7745550
_928486
801 1 _aRU
_bInfocomm
_c20130219
801 0 _aRU
_bINFOCOMM
_gPSBO
852 _aNLR
_jТ95 Д-4/361
942 _cBOOK