| 000 | 01289nam2a22002771 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | rc\279753 | ||
| 005 | 20250612170314.0 | ||
| 010 |
_a5-03-001717-8 _96700 |
||
| 035 | _a(NLR Aleph) 008741281 | ||
| 090 |
_a9532904 _c9532904 |
||
| 100 | _a20030307d1990 |||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | _arus | |
| 102 | _aRU | ||
| 105 | _aa ||||||||| | ||
| 200 | 0 |
_aЧ. 2 _fПеревод Д.Ю. Зарослова и др. |
|
| 210 |
_d1990 _aБ. м. |
||
| 215 |
_a614-1239, [5] с. _cил. |
||
| 300 | _aПеревод изд.: Semiconductor lithography / Wayne M. Moreau (New York; London) | ||
| 320 | _aБиблиогр. в конце глав | ||
| 320 | _aПредм. указ.: с. 1227-1235 | ||
| 461 | 0 |
_1001rc\279751 _12001#$aМикролитография$eПринципы, методы, материалы$eВ 2 ч.$fПер. с англ. под ред. Р.Х. Тимерова$gПредисл. К.А. Валиева$vЧ. 2 _1700#1$aМоро$bУ.$gУэйн _99537213 _aМоро, У. _cМ. _d1990- _fПер. с англ. под ред. Р.Х. Тимерова _nМир _oПринципы, методы, материалы : В 2 ч. _tМикролитография _y5030013725 _vЧ. 2 |
|
| 801 | 0 |
_aRU _bNLR _gpsbo |
|
| 801 | 1 |
_aRU _bELAR _2rusmarc |
|
| 852 |
_aNLR _j90-5/4807 |
||
| 942 | _cBOOK | ||
| 980 | _aNB | ||