Методы контроля, используемые в производстве тонкопленочных и твердых микросхем, Обзор по материалам отечеств. и зарубежной печати за 1960-1965 гг.
П10/3313 [П191-68]/русский (rus)/Методы контроля, используемые в производстве тонкопленочных и твердых микросхем : Обзор по материалам отечеств. и зарубежной печати за 1960-1965 гг. / Сост.: Невский, Ю.А., Нудельман, А.С., Трубецкой, А.И. ; М-во электронной пром-сти СССР. Центр. науч.-исслед. ин-т техн.-экон. исследований и науч. информации.Методы контроля, используемые в производстве тонкопленочных и твердых микросхем : Обзор по материалам отечеств. и зарубежной печати за 1960-1965 гг. / Сост.: Невский, Ю.А., Нудельман, А.С., Трубецкой, А.И.Методы контроля, используемые в производстве тонкопленочных и твердых микросхем : Обзор по материалам отечеств. и зарубежной печати за 1960-1965 гг.Москва/Б. и./, 1967 ( ). - Б. и., 1967. - 62 с. : ил. ; 21 см. - (Обзоры научно-технической литературы по электронной технике ; № 12 (1966 г.)).Методы контроля, используемые в производстве тонкопленочных и твердых микросхем : Обзор по материалам отечеств. и зарубежной печати за 1960-1965 гг. Москва, 1967 .
На обл. авт. не указаны. - Библиогр.: с. 61. Библиогр.: с. 61.
На обл. авт. не указаны. - Библиогр.: с. 61. Библиогр.: с. 61.