Диффузионное легирование в современной технологии кремниевых ИС
русский/Диффузионное легирование в современной технологии кремниевых ИС / Готра З.Ю., Осадчук В.В., Кучмий Г.Л.Диффузионное легирование в современной технологии кремниевых ИС / Готра З.Ю., Осадчук В.В., Кучмий Г.Л.Диффузионное легирование в современной технологии кремниевых ИС.М./Изд-во ЦНИИ "Электроника"/, 1990 ( ). - Изд-во ЦНИИ "Электроника", 1990. - 64 с. : ил. ; 21 см. - (Зарубежная электронная техника / ЦНИИ "Электроника" ; 5 (348)).Диффузионное легирование в современной технологии кремниевых ИС. М., 1990 .
Описано по 3 с. На тит. л. и обл. только загл. сер. - Библиогр.: с. 62-64. Библиогр.: с. 62-64.
Описано по 3 с. На тит. л. и обл. только загл. сер. - Библиогр.: с. 62-64. Библиогр.: с. 62-64.