Математическое моделирование технологических процессов микроэлектроники : учебное пособие / В. Г. Косушкин, Л. В. Кожитов, С. Г. Емельянов [и др.] ; Минобрнауки России, Юго-Западный государственный университет, Калужский филиал Московского государственного технического университета имени Н. Э. Баумана, Национальный исследовательский технологический университет "МИСИС", АО "НИИ НПО "Луч", Московский политехнический университет
Язык: русский.Выходные данные: Курск : ЮЗГУ, 2022Физическая характеристика: 202 с. : ил., табл. ; 20 см.ISBN: 978-5-7681-1598-2 Примечания: Авт. указаны на обороте тит. с..Библиография: Библиогр.: с. 189-190 (7 назв.).Предметная рубрика - Тема: Полупроводники -- Производство -- Технологические процессы -- Математическое моделирование -- Учебные издания для высших учебных заведений УДК: 621.382:004.94(075.8), 4Другие классификации: З843.308-1с11я73-1 Тип экземпляра: Книга| Тип экземпляра | Текущая библиотека | Шифр хранения | Кол-во копий | Статус | Срок возврата | Штрих-код | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Книга | РНБ (Московский) Русский книжный фонд: издания с 1957 года, 8этаж, Хран. | 2023-3/11113 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | КН-П-2463 | Доступно | 1-4213016 | ||
| Книга | РНБ (Московский) Русский книжный фонд: издания с 1957 года, 8этаж, Хран. | 2023-3/11113 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | КН-П-2463 | Доступно | 1-4213020 |
Авт. указаны на обороте тит. с.
Рассмотрены математические модели технологических процессов в технологии полупроводников: ионная имплантация, диффузия, термическое окисление и эпитаксия.
Библиогр.: с. 189-190 (7 назв.)