Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов
Тома: Показать записиЯзык: русский.Выходные данные: М. : Изд-во ЦНИИ "Электроника", 1988Физическая характеристика: 21 см.Серия: Обзоры по электротехнике Примечания: В надзаг. также: М-во электрон. пром-сти СССР.Коллекция: Национальная библиография Тип экземпляра: КнигаНет реальных экземпляров для этой записи
В надзаг. также: М-во электрон. пром-сти СССР