Numerical study of radiation of plasma composed of different elements in application to development of EUV light source for lithography / A.E. Stepanov, N.V. Suetin, V.C Roerich
Другие варианты заглавия: : Численное исследование излучения плазмы различных элементов в приложении к разработке источников ультрафиолетового излучения для литографииЯзык: английский ; резюме, русский.Выходные данные: [М.] : ЦНИИатоминформ, 2003Физическая характеристика: 16 с. : ил. ; 21 см.Серия: Препринт ТРИНИТИ ; 102-AПримечания: В вып. дан.: Численное исследование излучения плазмы различных элементов в приложении к разработке источников ультрафиолетового излучения для литографии / А.Е. Степанов, Н.В. Суетин, В.К. Рерих; Рез. на рус. яз..Библиография: Библиогр.: с. 15-16 (19 назв.).Предметная рубрика - Тема: Литография Другие классификации: М831Коллекция: Национальная библиография Тип экземпляра: Книга| Тип экземпляра | Текущая библиотека | Шифр хранения | Статус | Примечания | Срок возврата | Штрих-код | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Книга | РНБ (Московский) Иностранный книжный фонд | Ик 2003-4/250 (Просмотр полки(Открывается ниже)) | Доступно | ; | 1013642 |
В вып. дан.: Численное исследование излучения плазмы различных элементов в приложении к разработке источников ультрафиолетового излучения для литографии / А.Е. Степанов, Н.В. Суетин, В.К. Рерих
Рез. на рус. яз.
Библиогр.: с. 15-16 (19 назв.)